Модель для улучшения качества фотолитографии

Хорошая история о том, что даже если технология кажется годами отлаженной, всегда остается место для улучшений. Авторы из MIT и Гонконгского университета в очередной раз показали это на примере фотолитографии. Фотолитография позволяет получить нужный рисунок на поверхности с помощью фоточувствительной пленки (фоторезиста) и засветки. Первой фотолитографией можно считать изобретение Жозефа Ньепса в 20-х годах XIX века. Фоторезистом был битум, а целью изобретателя было закрепить изображение из камеры-обскуры (получить фотографию). 200 лет спустя с помощью фотолитографии делают микроплаты и достигли разрешения порядка нанометров. Однако разрыв между изначальным дизайном и производственным результатом сохраняется.

Авторы сделали довольно простую вещь, они взяли реальные данные фотолитографии — на этапе разработки и после производства. До этого в похожих работах использовали только данные симуляций. На этих данных обучили модель, которую назвали нейрофотолитографией. Она позволяет учитывать несовершенства, которые неизбежно возникнут при производстве и заранее подготовить проект так, чтобы по итогу выполнялись нужные характеристики.

В целом, сам подход такой синхронизации софта и железа, кажется, будет полезен и во многих других (или во всех) областях.

 

Подписывайтесь на телеграм-канал «Цифровой директор»

Connection Information

To perform the requested action, WordPress needs to access your web server. Please enter your FTP credentials to proceed. If you do not remember your credentials, you should contact your web host.

Connection Type