Модель для улучшения качества фотолитографии

Хорошая история о том, что даже если технология кажется годами отлаженной, всегда остается место для улучшений. Авторы из MIT и Гонконгского университета в очередной раз показали это на примере фотолитографии. Фотолитография позволяет получить нужный рисунок на поверхности с помощью фоточувствительной пленки (фоторезиста) и засветки. Первой фотолитографией можно считать изобретение Жозефа Ньепса в 20-х годах XIX века. Фоторезистом был битум, а целью изобретателя было закрепить изображение из камеры-обскуры (получить фотографию). 200 лет спустя с помощью фотолитографии делают микроплаты и достигли разрешения порядка нанометров. Однако разрыв между изначальным дизайном и производственным результатом сохраняется.

Авторы сделали довольно простую вещь, они взяли реальные данные фотолитографии — на этапе разработки и после производства. До этого в похожих работах использовали только данные симуляций. На этих данных обучили модель, которую назвали нейрофотолитографией. Она позволяет учитывать несовершенства, которые неизбежно возникнут при производстве и заранее подготовить проект так, чтобы по итогу выполнялись нужные характеристики.

В целом, сам подход такой синхронизации софта и железа, кажется, будет полезен и во многих других (или во всех) областях.

 

Подписывайтесь на телеграм-канал «Цифровой директор»